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MiniLab-30T PVD 薄膜沉積系統

應用領域:

適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜( Al、Au、Ag、Cu 等),也可蒸鍍各種氧化物材料??蓪崿F對有機材料的蒸發鍍膜,可滿 足發光器件 OLED(有機發光二極管)。及有機太陽能電池方面的研究要求,是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設備。 可鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜,單層 / 多層 / 復合膜,( Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等);鍍制非金屬 / 化合物等 材料薄膜( Mo03, LiF 等;有機材料等蒸發;太陽能電池、LED 的研究和實驗;描電鏡制樣等

MiniLab 30 PVD 薄膜沉積系統 (電阻蒸發).JPG

基本配置:

真空腔室:350×400mm 不銹鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理;腔室底板,頂部和側面裝有腔室內硬件接口;前 門上配直徑 80 玻璃觀察窗(含手動防污染擋板、可拆洗防污玻璃);腔體可選擇水冷。 

抽氣系統: 采用復合分子泵 + 直聯旋片泵作為真空抽氣系統; 主抽泵:分子泵抽速≥ 600L/S,氮氣壓縮比≥ 109 ; 前級泵:VRD-24 機械泵及電磁閥,抽速:6L/S 主抽閥: CCQ-150 超高真空氣動插板閥 

* 真空系統可以升級為進口分子泵和渦旋干泵。 

真空測量:數顯復合真空計:兩低一高全量程數顯復合真空計; 

* 真空測量可以升級為進口全量程冷陰極真空計 

極限真空:<5×10-5Pa 恢復真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 熱蒸發 / 有機物蒸發源: 最多 4 組金屬蒸發源,水冷電極和盒式防污染蒸發源;(可選配置) 最多 4 個有機束源爐,采用氧化鋁或石英坩堝(2CC)(可選配置) 

蒸發電源:采用恒壓、恒流真空鍍膜電源,最大輸出功率 2.4Kw; 電流調節精度 0.01A,電壓調節精度 0.01V,數量:2  

樣品臺:可容納樣品最大尺寸:4 英寸樣品托一個 , 配擋板,轉速 0-30rpm 連續可調 ; 樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -600,控溫精度 ±0.5; 

系統控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控制(可選手動按鈕)

選擇配置:

樣品臺可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

速率 / 膜厚監測儀(SQM-160 薄膜鍍層控制儀(SQC-310 

可選進口蒸發電源 全量程真空計 (Inficon) 

樣品托 : 不銹鋼、鋁或銅,基片盤上有螺紋孔。

系統要求標準配置:

工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣 

: 單相 220V, 50Hz,32A 

:18-25 , 3L/min,壓力 <0.4MPa


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