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DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置

本裝置由公司和武漢工程大學聯合研制,由微波源、真空系統、供氣系統、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成。適合大學近現代物理、材料、化學等領域進行微波 CVD 原理與方法的教學、研究,金剛石與類金剛石薄膜制備實驗及科學研究,以及用于生長碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜,具有生長速度快、操作簡便、性價比高等優點。同時可完成等離子體刻蝕加工實驗、微波等離子體表面改性等實驗。

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技術參數

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